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三十二 光學修正

小說:還有人做半導體嗎 作者:仰面清風明月

  隨著制程往下走,關鍵尺寸的線寬已經小于波長的一半,光學衍射效應變得明顯起來。以fab中最常用的arf而言,其激光波長是193nm,那么除以二,也就是說90nm就是極限了,后來即使出來了,可以做到65,但沒有光學修正的話,pattern將變得如蛇般扭曲,不成樣子,甚至忽隱忽現。由此,opc變得越來越重要,即使后面引入的多重曝光,也沒有降低opc的重要性。

  趙敏雖然也是新人,在這個領域卻足夠做孔明的師傅。

  “看在你謙虛好學,一片至誠,貧尼就賜教賜教吧。”趙敏說著不倫不類的話,神色鄭重。

  “opc是做什么的?僅僅是嗎?No,作為一名有理想的opc er,我們的目標是提高litho的process window,為pie排憂解難。”

  這一記馬屁讓孔明有點嘚瑟,不過旋即明白趙敏是在調侃pie,當下也不以為忤,繼續微笑傾聽。

  “opc主要分兩步,一是建model,模擬litho的現實曝光條件,其實也是為litho提供recipe setting,二者是相輔相成的。二是修recipe,利用model,在drawn layer上做opc,包括etch bias補償,sraf補償,model base補償,都是基于fragment來做的,這一部分比較精細。當然,建model的時候也很精細,需要收集盡可能多的pattern數據,利用這些數據,建model,目的嘛,當然也是為了盡量cover多的pattern。”

  孔明想著做handbook時有的layer要提供多個位置,dense,iso等,當下恍然,有了更深的了解。這就是uniformity的要求吧,design可以有粗有細,但必須都on target,不僅僅是litho要做到一致,cmp在大塊區域與稀疏區域也要做到均勻,所以對各家module,其實主要是設備及軟件供應商,提高了要求。

  “你們是基于litho的CD去修的,是吧?”孔明問。

  “當然了,design house給的是draw layer,而litho曝光出來的是litho CD,而etch家刻蝕出來的是etch CD,我們當然要補償回來etch造成的loss啊,并且dense iso補償的數值也不一樣,這些都需要大量的數據驗證。”趙敏詳細解釋。

  孔明點頭:“敏敏,在opc這方面,你足以勝任我的女朋友了,怎么樣,接下這份榮耀的角色吧。”

  趙敏抿嘴:“學的挺快嘛,不過,我為什么要答應你呢?”

  孔明笑瞇瞇說:“因為我好學,你好教,教學相長嘛。”

  趙敏笑了:“有那么點意思,那就先這樣吧。”

  孔明喜不自勝,他知道,自己現在只缺一個契機,就可以全壘打了。

  趙敏回到座位上,很快又回來,懷里抱了幾本厚墩墩的大部頭,說:“既然是教學,那自然是要考核的,這幾本是光學大牛的作品,你全部看一遍,寫個畢業論文吧。”

  孔明的瞳孔一下子收縮了,這幾本可都是傳說級難度,猶在施敏的工藝器件之上,而且以理論推導為主,這可真是要命的,一本光子學就能讓孔明掉半管血。

  “我想,夠你禁欲兩個月了。”趙敏宛然一笑,露出小半牙齒。

  孔明咬牙:“我跟它們拼了。”




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